事實(公司自述/申報)台積電(Form 6-K 2024-04-03)2024-04-03
包括所有 EUV 在內的關鍵機台沒有受損。
原文
“there is no damage to our critical tools including all of our extreme ultraviolet (EUV) lithography tools”
位置:6-K 本文・原件 ↗
TSM・NYSE(ADR)・科技/Semiconductors
| 成交量 | — |
|---|---|
| 52 週最高/最低 | — |
| 市值 | — |
| 本益比(近四季) | — |
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事實(公司自述/申報)台積電(Form 6-K 2024-04-03)2024-04-03
包括所有 EUV 在內的關鍵機台沒有受損。
“there is no damage to our critical tools including all of our extreme ultraviolet (EUV) lithography tools”
位置:6-K 本文・原件 ↗
事實(公司自述/申報)台積電(新聞稿)2019-04-03
五奈米製程因 EUV 得到製程簡化。
“The 5nm process enjoys the benefits of process simplification provided by EUV lithography”
位置:新聞稿本文・原件 ↗



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